高純度銅ターゲットの開発見通し

現在、IC 業界が必要とするハイエンドの超高純度金属銅ターゲットのほぼすべてが、外資系の大手多国籍企業数社によって独占されています。国内IC産業が必要とする超高純度銅ターゲットはすべて輸入する必要があり、高価であるだけでなく、輸入手続きが煩雑であるため、中国は超高純度(6N)銅スパッタリングターゲットの開発と検証を早急に改善する必要がある。 。超高純度（6N）銅スパッタリングターゲット開発のポイントと苦労を見てみましょう。

1、超高純度材料の開発

中国の高純度Cu、Al、Ta金属の精製技術は先進国の技術とは程遠い。現在、提供できる高純度金属のほとんどは、業界の従来の全元素分析法によるスパッタリングターゲット用集積回路の品質要件を満たすことができません。ターゲット内の介在物の数が多すぎるか、不均一に分布しています。スパッタリング中にウェーハ上に粒子が形成されることが多く、その結果、配線の短絡や断線が発生し、膜の性能に重大な影響を及ぼします。

2、銅スパッタリングターゲット作製技術の開発

銅スパッタリングターゲット作製技術の開発は、主に粒径、配向制御、均一性の3つの側面に焦点を当てています。半導体業界では、スパッタリングターゲットと蒸発原料に対して最も高い要件が求められます。ターゲットの表面粒径と結晶方位の制御には非常に厳しい要件があります。ターゲットの粒度は 100 で制御する必要がありますμ したがって、粒子サイズの制御と相関分析および検出の手段は、金属ターゲットの開発にとって非常に重要です。

3、分析の開発とテスト テクノロジー

ターゲットの純度が高いということは、不純物が少ないということです。従来、不純物の測定には誘導結合プラズマ（ICP）法や原子吸光分析法が用いられていましたが、近年ではより高感度なグロー放電品質分析（GDMS）が標準として用いられるようになってきています。 方法。残留抵抗率 RRR 法は主に電気純度の判定に使用されます。その判定原理は、不純物の電子分散度を測定することにより地金の純度を評価することです。室温と極低温での抵抗値を測定するため、数値を求めるのが簡単です。近年、金属の本質を探るため、超高純度の研究が盛んです。この場合、RRR 値が純度を評価する最良の方法です。