モリブデンターゲット材の利用率を高めるには

スパッタリングされたモリブデンターゲットは、その固有の利点により、エレクトロニクス産業、太陽電池、ガラスコーティングなどの分野で広く使用されています。小型化、集積化、デジタル化、インテリジェンスなどの現代技術の急速な発展に伴い、モリブデンターゲットの使用量は今後も増加し、その品質要件もますます高くなるでしょう。したがって、モリブデンターゲットの利用率を向上させる方法を見つける必要があります。さて、RSM の編集者は、スパッタリングモリブデンターゲットの利用率を向上させるためのいくつかの方法をすべての人に紹介します。

1. 裏側に電磁コイルを追加

スパッタリングモリブデンターゲットの利用率を向上させるために、平面マグネトロンスパッタリングモリブデンターゲットの裏側に電磁コイルを追加し、モリブデンターゲットの電流を増加させることでモリブデンターゲット表面の磁場を増加させることができます。モリブデンターゲットの利用率を向上させるために、電磁コイルを使用します。

2. 管状回転ターゲット材料の選択

平らなターゲットと比較して、管状の回転ターゲット構造を選択すると、その実質的な利点が強調されます。一般に、平坦なターゲットの利用率は 30% ～ 50% にすぎませんが、筒状の回転ターゲットの利用率は 80% 以上に達することがあります。さらに、回転中空管マグネトロンスパッタリングターゲットを使用する場合、ターゲットは固定された棒磁石アセンブリの周りを常に回転できるため、表面に再堆積がなく、回転ターゲットの寿命は一般に5倍以上長くなります。飛行機ターゲットよりも。

3. 新しいスパッタリング装置に交換する

ターゲット材の利用率向上の鍵は、スパッタリング装置の更新を完了させることです。モリブデンスパッタリングターゲット材料のスパッタリングプロセス中、スパッタリング原子の約 6 分の 1 が水素イオンに当たって真空チャンバーの壁またはブラケットに堆積し、真空装置の清掃コストとダウンタイムが増加します。したがって、新しいスパッタリング装置を交換することは、スパッタリングモリブデンターゲットの利用率の向上にも役立ちます。