光ストレージ業界におけるターゲット材料の性能要件

データストレージ産業で使用されるターゲット材料は高純度を必要とし、スパッタリング中の不純物粒子の生成を避けるために不純物や細孔を最小限に抑える必要があります。高品質な製品に使用されるターゲット材には、結晶粒径が小さく均一であること、結晶方位がないことが求められます。以下では、ターゲット素材に対する光ストレージ業界の要件を見てみましょう。

1. 純粋さ

実際のアプリケーションでは、ターゲット材料の純度はさまざまな業界や要件によって異なります。ただし、全体として、ターゲット材料の純度が高いほど、スパッタリングされた膜の性能は向上します。たとえば、光ストレージ業界では、ターゲット材料の純度が 3N5 または 4N 以上である必要があります。

2. 不純物含有量

ターゲット材料はスパッタリングにおける陰極源として機能し、固体中の不純物と細孔内の酸素と水蒸気が薄膜を堆積する際の主な汚染源となります。さらに、さまざまな用途のターゲットには特別な要件があります。光ストレージ産業を例に挙げると、コーティングの品質を確保するには、スパッタリングターゲット中の不純物含有量を非常に低く制御する必要があります。

3. 粒子サイズとサイズ分布

通常、ターゲット材料は多結晶構造をしており、粒径はマイクロメートルからミリメートルの範囲にあります。同じ組成のターゲットの場合、細粒ターゲットのスパッタリング速度は粗粒ターゲットのスパッタリング速度よりも速くなります。粒子サイズの差が小さいターゲットの場合、堆積膜厚もより均一になります。

4. コンパクト性

固体ターゲット材料の気孔率を低減し、膜性能を向上させるためには、一般に、スパッタリングターゲット材料が高密度であることが要求される。ターゲット材料の密度は主に準備プロセスに依存します。溶解鋳造法により製造されたターゲット材は、ターゲット材内部に気孔がなく、密度が非常に高いことが保証されます。