真空成膜におけるスパッタリングターゲットの役割とは

スパッタリングターゲット材料の選択における真空めっきは人々の課題となっており、現在、スパッタリングコーティング、特にマグネトロンスパッタリングコーティング技術の開発により、薄膜のターゲット材料の準備が可能になると言えるでしょう。イオン衝撃によるターゲット材料のスパッタリングは、基板の種類に応じてコーティングのプロセスでスパッタリング膜の品質に重要な影響を与えるため、ターゲット材料の要件がより厳しくなります。ここでは、北京リラックスの編集者と一緒に、真空コーティングにおけるスパッタリングターゲットの役割について学びます。

一、対象物質の選定原理と分類

ターゲット材料の選択では、フィルム自体の用途に加えて、次のような問題も考慮する必要があります。

問題点1. 膜の用途や性能の要求に応じて、ターゲット材料は純度、マガジン含有量、成分の均一性、加工精度などの技術的要求を満足する必要がある。

問題 2. ターゲット材料は、成膜後の機械的強度と化学的安定性が良好でなければなりません。

問題点３．反応性スパッタ膜としては、反応ガスと化合物膜を生成しやすい膜材料である必要がある。

問題点 4. ターゲットとマトリックスを強く設定する必要があります。そうでない場合は、マトリックスとの密着性の良い膜材料を採用する必要があります。最初にボトム膜の層をスパッタリングし、次に必要な膜層を準備する必要があります。

質問5. 膜の性能要求を満たすことを前提とすると、スパッタリング膜の熱応力の影響を少なくするために、ターゲットとマトリックスの熱膨張係数の差は小さいほど良いのですが、

よく使用されるいくつかのターゲットの準備

(1) crターゲット

スパッタリング膜材料としてのクロムは、基材との結合が容易であるだけでなく、密着性が高く、クロムおよび酸化物CrQ3膜の機械的特性、耐酸性、熱安定性が優れています。

北京如一ハイテク有限公司は主にチタンターゲット、ジルコニウムターゲット、アルミニウムターゲット、ニッケルターゲット、クロムターゲット、タングステンターゲット、モリブデンターゲット、銅ターゲット、シリコンターゲット、ニオブターゲット、タンタルターゲット、チタンシリコン合金に従事しています。ターゲット、チタンニオブ合金ターゲット、チタンタングステン合金ターゲット、チタンジルコニウム合金ターゲット、ニッケルクロム合金ターゲット、シリカアルミニウム合金ターゲット、ニッケルバナジウム合金ターゲット、クロムアルミニウムシリコン三元合金ターゲット、Ti al si三元合金ターゲット材料は、装飾/硬質表面および機能性コーティング、建築用ガラス、フラットディスプレイ/光電、光記憶、エレクトロニクス、印刷、その他の専門分野で広く使用されています。