CoFeTaZr合金スパッタリングターゲット高純度薄膜Pvdコーティングカスタムメイド

コバルト・鉄・タンタル・ジルコニウムのスパッタリングターゲットは真空溶解法で作製されます。この製造プロセスは、主要成分を酸化から効果的に保護し、均一な微細構造、均一な粒子サイズ、および堆積膜の高い一貫性を保証します。

熱処理によりターゲットのPTFが大幅に向上するため、垂直磁気記録層の軟磁性層材料としてよく使用されます。

リッチスペシャルマテリアルズはスパッタリングターゲットの製造を専門とし、お客様の仕様に応じてコバルト鉄タンタルジルコニウムスパッタリング材料を生産することができます。詳細については、お問い合わせください。