CrAlSi 合金のスパッタリング ターゲットの高純度の薄膜 Pvd コーティングのカスタムメイド

クロム アルミニウム シリコン スパッタリング ターゲットの製造は、次の手順で構成されます。
1.シリコン、アルミニウム、クロムを真空溶解してステップアロイを得る。
2.粉末の粉砕と混合。
3.熱間静水圧プレス処理によりクロム・アルミニウム・シリコン合金スパッタリングターゲットを得る。
クロムアルミニウムシリコンスパッタリングターゲットは、耐摩耗性と耐高温酸化性により膜の性能を向上させるため、切削工具や金型に広く使用されています。
アモルファス Si3N4 相は、CrAlSi ターゲットの PVD ​​プロセス中に形成されます。アモルファスSi3N4相の導入により、粒径の成長が抑制され、高温酸化耐性が向上します。