PbBi 合金スパッタリング ターゲット高純度薄膜 Pvd コーティングのカスタムメイド
鉛ビスマス
鉛ビスマススパッタリングターゲットの説明
鉛ビスマス合金は融点が低いことで知られています。低融点合金には通常、約 20% ～ 25% の鉛、ビスマスが含まれており、場合によってはスズ、カドミウム、インジウムなどの他の金属も含まれます。これらは、レンズブロッキング、精密工学におけるワーク保持、プロトタイピング、安全バルブ、限定加工用のプレスツール、複雑な形状のチューブ曲げ、遮蔽ブロックを構築するための放射線治療、その他多くの用途のために光学産業で広く使用されています。
鉛ビスマス合金の融点は 124°C で、原子炉の冷却材、水素製造、および非核分裂中性子製造用の破砕ターゲットに適した材料です。
低融点合金の成分
| No | C面構え（wt.%） | 融解帯温度/℃ | P尿意 | Tイプス | |||||
|
| Bi | Pb | Sn | Cd | Sタルト | Fイニッシュ | 自重流動点 | (%) | |
| 1 | 50.0 | 26.7 | 13.3 | 10.0 | 70 | 70 | 70 |
| 共晶 |
| 2 | 52.0 | 32.0 | 16.0 | - | 95 | 95 | 95 |
| 共晶 |
| 3 | 54.4 | 43.6 | 1.0 | 1.0 | 104 | 115 | 112 |
| 非共晶 |
| 4 | 55.5 | 44.5 | - | - | - | - | - | 99.995 | |
鉛ビスマススパッタリングターゲットのパッケージング
当社の鉛ビスマス スパッタ ターゲットには、効率的な識別と品質管理を確保するために、外部に明確にタグとラベルが付けられています。保管中や輸送中に発生する可能性のある損傷を避けるために細心の注意を払っています。
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RSM の鉛ビスマス スパッタリング ターゲットは、超高純度で均一です。これらは、さまざまな形式、純度、サイズ、価格で入手できます。当社は、金型コーティング、装飾、自動車部品、Low-E ガラス、半導体集積回路、薄膜などに使用される、優れた性能、最高の密度、可能な限り小さい平均粒子サイズを備えた高純度の薄膜コーティング材料の製造を専門としています。抵抗、グラフィックディスプレイ、航空宇宙、磁気記録、タッチスクリーン、薄膜太陽電池およびその他の物理蒸着（PVD）アプリケーション。リストにないスパッタリングターゲットおよびその他の蒸着材料の現在の価格についてはお問い合わせください。